光刻機巨頭艾司摩爾稱東方晶源可能侵權 後者：與事實不符
2022/02/13
荷蘭半導體設備商光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）日前稱中國企業東方晶源可能侵權。對此，東方晶源微電子科技（北京）有限公司回應稱，近期網路相關報導「與事實不符」，並稱對於相關不實資訊，將保留追究其法律責任的權利。
東方晶源聲明表示，該公司是一家專注於積體電路領域良率管理的企業，已成功的自主研發出計算光刻軟體（OPC）、奈米級電子束檢測裝備（EBI）和關鍵尺寸量測裝備（CD-SEM）三款核心產品，獲得了行業和客戶的高度認可。
聲明指出，該公司自成立以來一直遵守中國法律法規、合法合規經營。秉承獨立研發、自主創新的理念，該公司尊重、保護智慧財產權，並形成了獨立、完備的智慧財產權體系。未來，將繼續與產業鏈上下游夥伴精誠合作，專注中國半導體核心技術的研發與突破，助力中國半導體產業全面發展。
觀察者網稍早前曾報導，2月9日，荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）在2021年財報中宣稱，東方晶源正在中國積極銷售可能侵犯艾司摩爾智慧財產權的產品。艾司摩爾同時還稱，東方晶源與一家已經破產的美國公司XTAL存在關聯，2019年美國法院曾判定XTAL侵犯艾司摩爾智慧財產權。
編輯 / 羅志光
【巴西華人資訊網】
